特許
J-GLOBAL ID:200903036223524524
反応器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 政喜 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-000664
公開番号(公開出願番号):特開2002-211901
出願日: 2001年01月05日
公開日(公表日): 2002年07月31日
要約:
【要約】【課題】 分解生成ガスを生成する反応器において、改質効率を向上させ、かつ低コスト化を図り得るものを提供する。【解決手段】 改質触媒層10の両側に水素分離膜9を挟んで一対のガス分離層20を配設して、単位反応器1を構成する。改質触媒層10には、上下両面に改質触媒が塗布された改質触媒フィン12を備える。ガス分離層20には、通路分離フィン22を備え、この通路分離フィン22に対して改質触媒層10側を水素ガス通路23とし、反対側を燃焼ガス通路24とする。
請求項(抜粋):
分解生成ガスを生成する反応器において、改質ガスを生成する改質触媒層と、改質ガス中の分解生成ガスを分離して透過する分解生成ガス分離部材を挟んで前記改質触媒層の両側に配設された一対の分解生成ガス通路と、を備えたことを特徴とする反応器。
IPC (4件):
C01B 3/32
, C01B 3/38
, C01B 3/56
, H01M 8/06
FI (4件):
C01B 3/32 A
, C01B 3/38
, C01B 3/56 Z
, H01M 8/06 G
Fターム (23件):
4G040EA02
, 4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB23
, 4G040EB31
, 4G040EB46
, 4G040FA02
, 4G040FC01
, 4G040FC07
, 4G140EA02
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB23
, 4G140EB31
, 4G140EB46
, 4G140FA02
, 4G140FC01
, 4G140FC07
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027BA16
, 5H027KK41
, 5H027MM13
引用特許:
審査官引用 (7件)
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特開昭62-162601
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水素製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-166352
出願人:東京瓦斯株式会社, 三菱重工業株式会社
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非平衡反応用プレートフィン型反応器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-157854
出願人:川崎重工業株式会社, 住友精密工業株式会社
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水素製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-206993
出願人:三菱重工業株式会社, 東京瓦斯株式会社
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プレート式反応器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-296393
出願人:石川島播磨重工業株式会社
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水素製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-088709
出願人:石川島播磨重工業株式会社
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脱水素反応の促進方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-135301
出願人:川崎重工業株式会社
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