製造装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-047805
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313655
出願日： 2003年02月25日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】 EL材料の利用効率が高く、膜の均一性にすぐれた蒸着装置を提供する。【解決手段】本発明は、移動可能な蒸着源と、基板の回転手段とを備えた蒸着装置とし、蒸着源ホルダ17と被蒸着物(基板13)との間隔を30cm以下、好ましくは20cm以下、さらに好ましくは5〜15cmと狭め、さらに蒸着の際、蒸着源ホルダ17をX方向またはY方向に移動させるとともに被蒸着物(基板13)を回転または固定させて成膜を行う。

請求項（抜粋）：

基板に対向して配置した蒸着源から蒸着材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う成膜装置であって、前記基板が配置される成膜室には、蒸着源と、該蒸着源を移動する手段と、基板を回転する手段とを有し、前記蒸着源を移動させ、且つ、同時に前記基板を回転させて成膜を行うことを特徴とする成膜装置を有する製造装置。

IPC (4件)：

C23C 14/24 , C23C 14/50 , H05B 33/10 , H05B 33/14

FI (5件)：

C23C 14/24 S , C23C 14/24 C , C23C 14/50 J , H05B 33/10 , H05B 33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB17 , 3K007AB18 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4K029BD00 , 4K029DB00 , 4K029DB06 , 4K029DB23 , 4K029EA00 , 4K029JA08

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭61-284569
特開昭61-284569
成膜装置及び成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-394259 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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