特許
J-GLOBAL ID：200903036342166083

シリコン再生装置、シリコン再生方法

発明者：
梶本 公彦

梶本 公彦 について

, 
北條 義之

北條 義之 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-299513
公開番号（公開出願番号）：特開2008-115040
出願日： 2006年11月02日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：
【課題】廃スラリーから簡易に多くのシリコンを回収することができるシリコン再生装置を提供する。【解決手段】本発明のシリコン再生装置は、砥粒とクーラントを含むスラリーを使用してシリコンを切断する切断装置又は研磨する研磨装置から排出された廃スラリー、又は前記廃スラリーが濃縮された廃スラリー濃縮分を固液分離してシリコン回収用固形分を取得する固液分離部と、有機溶媒を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄部と、洗浄後の前記シリコン回収用固形分に対して分級を行って、分級前よりも砥粒の含有率が低減されかつシリコンの含有率が高められたシリコン含有粉体を取得する分級部とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
砥粒とクーラントを含むスラリーを用いたシリコン塊又はシリコンウエハの切断又は研磨によって前記スラリーにシリコン屑が混入された廃スラリー又はその濃縮分を固液分離してシリコン屑を含有するシリコン回収用固形分を取得する固液分離部と、有機溶媒を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄部と、前記洗浄部からの前記シリコン回収用固形分に対して分級を行って、分級前よりも砥粒の含有率が低減されかつシリコンの含有率が高められたシリコン含有粉体を取得する分級部とを備えるシリコン再生装置。
IPC (4件)：
C01B 33/037 ,  C02F 11/12 ,  B03C 1/00 ,  B07B 9/00
FI (4件)：
C01B33/037 ,  C02F11/12 C ,  B03C1/00 A ,  B07B9/00 A
Fターム (33件)：
4D021AA01 ,  4D021AB02 ,  4D021EA10 ,  4D021FA22 ,  4D021GB01 ,  4D021GB03 ,  4D021HA10 ,  4D059AA30 ,  4D059BE01 ,  4D059BE38 ,  4D059BE46 ,  4D059BE49 ,  4D059BE51 ,  4D059CC10 ,  4G072AA01 ,  4G072BB01 ,  4G072BB12 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH40 ,  4G072LL06 ,  4G072LL15 ,  4G072MM03 ,  4G072MM09 ,  4G072MM23 ,  4G072MM26 ,  4G072MM28 ,  4G072MM31 ,  4G072MM38 ,  4G072NN01 ,  4G072QQ13 ,  4G072RR23 ,  4G072UU02
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • シリコンの回収方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-096957   出願人：株式会社日平トヤマ
審査官引用 (2件)

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