特許
J-GLOBAL ID:200903036345803505

投影対物レンズ、マイクロリソグラフィのための投影露光装置及び反射レチクル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田辺 徹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-505428
公開番号(公開出願番号):特表2007-531024
出願日: 2005年03月18日
公開日(公表日): 2007年11月01日
要約:
【課題】 微細にパターン化された機器のマイクロリソグラフィ製造の間、投影対物レンズを用いて超微細構造が費用効果的に製造され得る投影対物レンズを提供する。【解決手段】 マイクロリソグラフィのための投影対物レンズが、その物表面に配置されたマスクのパターンをその像表面に配置された像視野に縮小結像系で結像するのに役立つ。それが投影対物レンズの光学軸心に沿って配置された多数の光学素子を有し、投影対物レンズが像側開口数NA>0.85及び縮小結像スケール|b|<0.05となるように、複数の光学素子が構成されて配置されていて、平面状の像視野が、1mmより大きいマイクロリソグラフィに適した最小像視野直径を有する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
投影対物レンズの物表面に配置されたパターンを、投影対物レンズの像表面に配置された像視野に、縮小結像スケールで結像するための投影対物レンズであって、 投影対物レンズの光学軸心に沿って配置された多数の光学素子を有し、 投影対物レンズが像側開口数NA>0.85及び縮小結像スケール|β|<0.05となるように、複数の光学素子が構成されて配置されていて、像視野が1mmより大きい最小像視野直径を有する、投影対物レンズ。
IPC (4件):
G02B 13/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G02B 13/18
FI (4件):
G02B13/00 ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  G02B13/18
Fターム (23件):
2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB17 ,  2H087PB19 ,  2H087QA02 ,  2H087QA06 ,  2H087QA12 ,  2H087QA21 ,  2H087QA25 ,  2H087QA26 ,  2H087QA32 ,  2H087QA41 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087RA41 ,  2H087UA03 ,  5F046BA03 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12
引用特許:
出願人引用 (19件)
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審査官引用 (5件)
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