特許
J-GLOBAL ID:200903036345803505
投影対物レンズ、マイクロリソグラフィのための投影露光装置及び反射レチクル
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田辺 徹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-505428
公開番号(公開出願番号):特表2007-531024
出願日: 2005年03月18日
公開日(公表日): 2007年11月01日
要約:
【課題】 微細にパターン化された機器のマイクロリソグラフィ製造の間、投影対物レンズを用いて超微細構造が費用効果的に製造され得る投影対物レンズを提供する。【解決手段】 マイクロリソグラフィのための投影対物レンズが、その物表面に配置されたマスクのパターンをその像表面に配置された像視野に縮小結像系で結像するのに役立つ。それが投影対物レンズの光学軸心に沿って配置された多数の光学素子を有し、投影対物レンズが像側開口数NA>0.85及び縮小結像スケール|b|<0.05となるように、複数の光学素子が構成されて配置されていて、平面状の像視野が、1mmより大きいマイクロリソグラフィに適した最小像視野直径を有する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
投影対物レンズの物表面に配置されたパターンを、投影対物レンズの像表面に配置された像視野に、縮小結像スケールで結像するための投影対物レンズであって、
投影対物レンズの光学軸心に沿って配置された多数の光学素子を有し、
投影対物レンズが像側開口数NA>0.85及び縮小結像スケール|β|<0.05となるように、複数の光学素子が構成されて配置されていて、像視野が1mmより大きい最小像視野直径を有する、投影対物レンズ。
IPC (4件):
G02B 13/00
, H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 13/18
FI (4件):
G02B13/00
, H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, G02B13/18
Fターム (23件):
2H087KA21
, 2H087LA01
, 2H087PA15
, 2H087PA17
, 2H087PB17
, 2H087PB19
, 2H087QA02
, 2H087QA06
, 2H087QA12
, 2H087QA21
, 2H087QA25
, 2H087QA26
, 2H087QA32
, 2H087QA41
, 2H087QA45
, 2H087RA05
, 2H087RA12
, 2H087RA13
, 2H087RA41
, 2H087UA03
, 5F046BA03
, 5F046CB25
, 5F046DA12
引用特許:
出願人引用 (19件)
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米国特許6,461,908 B1
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DE 100 05 189 A1
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米国特許6,596,718 B1
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米国特許5,999,310
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米国特許6,439,726
-
米国特許4,969,730
-
米国特許5,257,139
-
米国特許6,238,852 B1
-
米国特許5,523,193
-
米国特許5,691,541
-
米国特許6,060,224
-
米国特許6,312,134
-
米国特許5,870,176
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WO 03/016977 A2
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マイクロリソグラフィーの投影露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-028090
出願人:カール-ツアイス-スチフツング
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広範囲ズーム機能を備えた超広帯域紫外顕微鏡映像システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-506547
出願人:クラ-テンカーコーポレイション
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精度改良型パターン・ジェネレータ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-534915
出願人:マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット
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EUVを使用するパターン・ジェネレータ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-534917
出願人:マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット
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特開平2-160237
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審査官引用 (5件)
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