特許
J-GLOBAL ID：200903036377262603

クラスターイオンビームスパッター装置

発明者：
阿部 泰三

阿部 泰三 について

, 
山田 公

山田 公 について


出願人/特許権者：
新技術事業団

新技術事業団 について

, 
アユミ工業株式会社

アユミ工業株式会社 について


代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-244413
公開番号（公開出願番号）：特開平8-104980
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】【構成】 静電レンズ電極(4)とアパーチャー(5)を組み合わせたクラスターサイズ選別装置をガスクラスターイオンビーム装置内に配設する。【効果】 クラスターイオンビーム照射装置内に備えた静電レンズとアパーチャーを組み合わせたクラスターサイズ選別装置を持つ装置によって簡便に、かつ高性能なスパッター加工が可能になる。
請求項（抜粋）：
クラスターイオンビーム照射装置において、静電レンズとアパーチャーを組み合わせたクラスターサイズ選別装置を備えていることを特徴とするスパッター装置。
IPC (3件)：
C23C 14/32 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM