特許

J-GLOBAL ID：200903036377262603

クラスターイオンビームスパッター装置

発明者： 阿部 泰三 ,  山田 公
出願人/特許権者： 新技術事業団 ,  アユミ工業株式会社
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-244413
公開番号（公開出願番号）：特開平8-104980
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【構成】 静電レンズ電極(4)とアパーチャー(5)を組み合わせたクラスターサイズ選別装置をガスクラスターイオンビーム装置内に配設する。【効果】 クラスターイオンビーム照射装置内に備えた静電レンズとアパーチャーを組み合わせたクラスターサイズ選別装置を持つ装置によって簡便に、かつ高性能なスパッター加工が可能になる。

請求項（抜粋）：

クラスターイオンビーム照射装置において、静電レンズとアパーチャーを組み合わせたクラスターサイズ選別装置を備えていることを特徴とするスパッター装置。

IPC (3件)：

C23C 14/32 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317

引用特許：

審査官引用 (4件)

• クラスターイオンビームの質量分離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088224   出願人：新技術事業団
• ガスクラスターイオン援用による化合物薄膜の 形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088223   出願人：新技術事業団
• 特開昭60-100421
  
• 特開平4-198475