特許
J-GLOBAL ID：200903036597960115

有機EL素子の製造方法および装置

発明者：
荒井 三千男

荒井 三千男 について

, 
中谷 賢司

中谷 賢司 について


出願人/特許権者：
ティーディーケイ株式会社

ティーディーケイ株式会社 について


代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-215758
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045779
出願日： 1997年07月25日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 装置の設計自由度が高く、効率的な処理が可能で、しかも製造された素子の発光効率が高く、素子特性も良好な有機EL素子の製造装置および製造方法を提供する。【解決手段】 少なくともホール注入電極が形成された基板表面を洗浄する洗浄手段と、前記基板表面洗浄後に有機層を成膜する有機層形成手段とを有し、前記洗浄手段は、オゾナイザーにより発生されたオゾンにより洗浄を行う有機EL素子の製造装置。
請求項（抜粋）：
少なくともホール注入電極が形成された基板表面を洗浄する洗浄手段と、前記基板表面洗浄後に有機層を成膜する有機層形成手段とを有し、前記洗浄手段は、1.33×104 Pa以下の減圧下でオゾナイザーにより発生されたオゾンガスにより洗浄を行う有機EL素子の製造装置。
IPC (2件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/26
FI (2件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/26
引用特許：
審査官引用 (4件)
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