特許
J-GLOBAL ID：200903036614591161
X線露光用マスク及びその製造に用いるマスクブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-166812
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029966
出願日： 1994年07月19日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】予め裏面側反射防止膜をX線透過支持膜の下に形成しておくことを可能とし、破壊する恐れが極めて低く、且つパターン位置精度が優れた反射防止膜付きのX線マスク及びそれに用いるブランクを提供する。【構成】該X線透過支持膜と該X線吸収体パターンとの間とまた該X線透過支持膜と該枠体との間には、それぞれ、X線透過支持膜主面側用ととX線透過支持膜裏面側用として、それぞれアライメント光に対する反射防止膜が具備されており、且つ該X線透過支持膜が窒化シリコン膜からなり、反射防止膜が二酸化シリコン膜またはサイアロン膜からなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
枠体と、該枠体によって支持され軽元素の物質からなるX線透過支持膜と、該X線透過支持膜上に設けられた重金属からなるX線吸収体パターンを有するX線露光用マスクにおいて、アライメント光に対する反射防止膜が、該X線透過支持膜と該X線吸収体パターンとの間にはX線透過支持膜主面側用として、また該X線透過支持膜と該枠体との間にはX線透過支持膜裏面側用として、それぞれ具備されており、且つ該X線透過支持膜が窒化シリコン膜からなることを特徴とするX線露光用マスク。
引用特許：
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