特許
J-GLOBAL ID：200903036645829492
磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松山 圭佑
, 高矢 諭
, 牧野 剛博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-277008
公開番号（公開出願番号）：特開2006-092659
出願日： 2004年09月24日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】記録層が凹凸パターンで形成され、表面が充分に平坦で良好な記録/再生特性が確実に得られる磁気記録媒体及びこのような磁気記録媒体を効率良く製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】基板22上に導電層38、連続記録層、絶縁層がこの順で形成された被加工体の連続記録層を凹凸パターンに加工し、凹凸パターンの凸部に前記絶縁層が残存し、且つ、凹凸パターンの凹部26の底部に導電層38が露出するように記録要素24Aを形成してから、タングステン及びアルミニウムのいずれかを主成分とする非磁性材28を凹部26の底部に露出した導電層38上に選択的に堆積させるCVD法を用いて、凹部26に非磁性材28を充填する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板上に導電層、連続記録層、絶縁層がこの順で形成された被加工体の前記連続記録層を凹凸パターンに加工し、該凹凸パターンの凸部に前記絶縁層が残存し、且つ、前記凹凸パターンの凹部の底部に前記導電層が露出するように、前記凹凸パターンの凸部として記録要素を形成する記録層加工工程と、CVD法により、タングステン及びアルミニウムのいずれかを主成分とする非磁性材を、前記凹部の底部に露出した前記導電層上に選択的に堆積させ、前記凹部に前記非磁性材を充填する非磁性材充填工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G11B5/84 Z
, G11B5/84 A
, G11B5/65
5D006AA06
, 5D006BB01
, 5D006BB02
, 5D006BB05
, 5D006BB07
, 5D006BB09
, 5D006CA02
, 5D006CA03
, 5D006CB04
, 5D006DA03
, 5D006FA09
, 5D112AA01
, 5D112AA05
, 5D112AA18
, 5D112BB01
, 5D112BB05
, 5D112BB06
, 5D112FA09
, 5D112GA02
, 5D112GA18
, 5D112GA20
出願人引用 (2件)
審査官引用 (10件)
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