特許
J-GLOBAL ID:200903036647859968

蛍光X線を用いた膜厚測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 眞鍋 潔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-099553
公開番号(公開出願番号):特開2000-292141
出願日: 1999年04月07日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 蛍光X線を用いた膜厚測定方法に関し、標準試料を用いて感度直線を作成する際に、成膜時の多層膜構造を反映するように感度を補正し、分析対象における未知の層の膜厚を精度良く測定する。【解決手段】 標準試料を分析層を同じ材料の層で挟んだ多層構造とし、理論強度を計算する際に、標準試料の成膜時の膜構造モデルを用いて感度直線を得る。
請求項(抜粋):
標準試料を分析層を同じ材料の層で挟んだ多層構造とし、蛍光X線の理論強度を計算する際に、前記標準試料の成膜時の膜構造モデルを用いて感度直線を得ることを特徴とする蛍光X線を用いた膜厚測定方法。
Fターム (13件):
2F067AA27 ,  2F067BB16 ,  2F067CC13 ,  2F067DD01 ,  2F067EE04 ,  2F067FF17 ,  2F067GG04 ,  2F067HH04 ,  2F067JJ03 ,  2F067KK01 ,  2F067KK06 ,  2F067KK08 ,  2F067RR24
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 標準試料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-220840   出願人:日本電信電話株式会社
  • 膜厚測定方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-125947   出願人:株式会社テクノス研究所

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