特許
J-GLOBAL ID：200903036687650298

不純物除去装置

発明者：
稲葉 仁

稲葉 仁 について

, 
岡村 典明

岡村 典明 について

, 
田中 雄造

田中 雄造 について


出願人/特許権者：
高砂熱学工業株式会社

高砂熱学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-025451
公開番号（公開出願番号）：特開2002-224524
出願日： 2001年02月01日
公開日（公表日）： 2002年08月13日
要約：
【要約】【課題】 処理した空気中における除去ガス成分の濃度を上昇させることなく,処理空気中の可溶性ガスを吸収する吸収液のpH値を短時間で所定の範囲内になるように制御する。【解決手段】 処理空気中の可溶性ガスを、チャンバ2内において清浄な吸収液との気液接触によって除去し、前記吸収液を循環して利用する不純物除去装置1であって、循環水配管15中に吸収液のpH値を検出するpHセンサ20を有している。pHセンサ20の検出結果に基づいて、制御装置19が一般水補給配管の二方弁18の開閉を制御する。一般水はのpH値は,通常6〜8になっている。
請求項（抜粋）：
処理空気中の可溶性ガスを,チャンバ内において清浄な吸収液との気液接触によって除去し,前記吸収液を循環して利用するための吸収液の循環系とを有する不純物除去装置であって,前記循環系にある吸収液のpH値を検出するpHセンサと,pH値が6〜8の一般水を前記循環系に補給する一般水補給配管と,前記pHセンサの検出結果に基づいて前記一般水補給配管の弁の開閉を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする,不純物除去装置。
IPC (2件)：
B01D 53/14 ,  B01D 53/18
FI (2件)：
B01D 53/14 C ,  B01D 53/18 E
Fターム (10件)：
4D020AA06 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB25 ,  4D020CC05 ,  4D020CD01 ,  4D020DA01 ,  4D020DA02 ,  4D020DB08 ,  4D020DB20
引用特許：
審査官引用 (4件)
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