特許

J-GLOBAL ID：200903036780519410

リソグラフィ装置および露光方法

発明者： ビホヘト,ディルク-ジャン ,  ビホナグテ,アントン,エイドリアーン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-227689
公開番号（公開出願番号）：特開2009-071305
出願日： 2008年09月05日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：

【課題】 リソグラフィ装置内のパターニングデバイスのスリップ特性を考慮に入れるための手段を提供することである。【解決手段】 リソグラフィ装置は、パターニングデバイスの第1の位置測定を実施し、パターニングデバイスを支持する支持体に非対称加速度プロファイルを適用し、パターニングデバイスの第2の位置測定を実施し、2つの位置測定および適用された加速度プロファイルに基づいて、パターニングデバイスのスリップ特性を求め、かつパターニングデバイスのスリップ特性を考慮して、基板のスキャン露光を実施するように構成された、制御ユニットを含む。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

放射ビームを調整する照射システムと、 前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターニングされた放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを保持する支持体と、 基板を保持する基板テーブルと、 前記パターニングされた放射ビームを、前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、 前記パターニングデバイスの位置を測定する測定システムと、 前記支持体を変位させる第1のステージ装置と、 前記基板テーブルを支持する第2のステージ装置と、 制御ユニットであって、 前記測定システムを使用して、前記パターニングデバイスの第1の位置測定を実施し、 前記第1のステージ装置を使用して、前記支持体に非対称加速度プロファイルを適用し、 前記測定システムを使用して、前記パターニングデバイスの第2の位置測定を実施し、 前記2つの位置測定および前記適用された加速度プロファイルに基づいて、前記パターニングデバイスのスリップ特性を求め、 前記パターニングデバイスの前記スリップ特性を考慮して前記第1および第2のステージ装置を制御することにより、基板のスキャン露光を実施する、制御ユニットと を備える、リソグラフィ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L21/30 516B ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 518 ,  H01L21/68 K

Fターム (19件)：

5F031CA02 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA22 ,  5F031KA06 ,  5F031MA27 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC09 ,  5F046CC13 ,  5F046CC15 ,  5F046DA06 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12 ,  5F046EB02 ,  5F046FA14 ,  5F046FC04

引用特許：

出願人引用 (3件)

• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-291660   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 走査型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-282873   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-318157   出願人：株式会社ニコン