特許
J-GLOBAL ID：200903036794341125

微細構造体の製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法、および液体吐出ヘッド

発明者：
久保田 雅彦

久保田 雅彦 について

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芝 昭二

芝 昭二 について

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石倉 宏恵

石倉 宏恵 について

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岡野 明彦

岡野 明彦 について

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檜山 亘

檜山 亘 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (4件)： 宮崎 昭夫 ,  金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-271623
公開番号（公開出願番号）：特開2004-046217
出願日： 2003年07月07日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】 液流路の3次元的な形状を最適化し、メニスカス振動を抑えて記録液を高速に再充填可能な流路形状とそのヘッドを製造する製造方法を提供する。【解決手段】 ヒーターを形成した基板2011上に形成する液流路となる型パターンを、下層及び上層の2層構造にポジ型感光性材料から形成し、下層については熱架橋化してから液流路の形成に用いる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に、架橋化された状態で第1の波長域の電離放射線に感光する第1のポジ型感光性材料の層を設け、該ポジ型感光性材料の層を加熱処理して架橋化されたポジ型感光性材料層からなる下層を形成する工程と、 該下層上に前記第1の波長域とは異なる第2の波長域の電離放射線に感光する第2のポジ型感光性材料からなる上層を設けて2層構造を得る工程と、 該2層構造の前記上層の所定部に前記第2の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで前記上層の照射領域のみを除去して上層を所望のパターンに形成する工程と、 該上層のパターン形成により露出した前記下層の所定の領域に前記第1の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで、前記下層を所望のパターンに形成する工程と、 を有する微細構造体の製造方法であって、 前記第1のポジ型感光性材料は、メタクリル酸エステルを主成分とし、更に熱架橋因子としてのメタクリル酸と、前記電離放射線に対する感度領域を広げる因子とを有する3元系共重合体を含むものであることを特徴とする微細構造体の製造方法。
IPC (6件)：
G03F7/26 ,  B41J2/05 ,  B41J2/16 ,  G03F7/032 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32
FI (6件)：
G03F7/26 511 ,  G03F7/032 ,  G03F7/039 501 ,  G03F7/32 ,  B41J3/04 103B ,  B41J3/04 103H
Fターム (32件)：
2C057AF22 ,  2C057AF43 ,  2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AP37 ,  2C057AP47 ,  2C057AQ04 ,  2C057BA05 ,  2C057BA13 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB20 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BF02 ,  2H025BF04 ,  2H025BF12 ,  2H025CB13 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC17 ,  2H025DA13 ,  2H025FA17 ,  2H096AA30 ,  2H096BA11 ,  2H096DA01 ,  2H096EA03 ,  2H096EA14 ,  2H096GA08 ,  2H096GA10 ,  2H096KA03 ,  2H096KA06
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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