特許
J-GLOBAL ID：200903036802563396
段差付フォトマスク及びカラーフィルタ基板並びにその製造法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-156869
公開番号（公開出願番号）：特開2006-330545
出願日： 2005年05月30日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】通常の透明樹脂感光層を近接露光(プロキシミティー)法にてパターン露光して柱状スペーサーを形成する際に使用する段差付フォトマスク及び段差付フォトマスクを使って全領域にわたって柱状スペーサーの高さを均一に形成したカラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】透明基板11上にブラックマトリクス21bと、遮光額縁層21aと、複数の着色フィルタからなる着色フィルタ層30と、透明電極層41と、柱状スペーサー51a及びダミー柱状スペーサー51bとが形成されており、着色フィルタ層30からなるメインパターン領域上に形成された柱状スペーサー51aの上部と、透明基板11周辺部に形成されたダミー柱状スペーサー51bの上部とが同じ高さになるようにしてある。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
透明基板上に少なくとも複数の着色フィルタからなる着色フィルタ層と、柱状スペーサーとが形成されてなるカラーフィルタ基板の柱状スペーサーを近接露光(プロキシミティー)法にてパターン露光する際に使用するフォトマスクであって、前記フォマスクとカラーフィルタ基板との間の露光ギャップを変えるために、フォトマスクを形成するための透明基板の厚さを部分的に変えたことを特徴とする段差付フォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B5/20 101
, G03F1/08 B
2H048BA02
, 2H048BA11
, 2H048BA45
, 2H048BB02
, 2H048BB08
, 2H048BB42
, 2H095BA03
, 2H095BA12
, 2H095BC26
, 2H095BC28
