特許
J-GLOBAL ID：200903042994115960
高低パターン層形成体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-028808
公開番号（公開出願番号）：特開2004-240136
出願日： 2003年02月05日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
【課題】高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層を、同一の材料を用いて、同時に製造することができる高低パターン層形成体の製造方法を提供する。【解決手段】光硬化型樹脂組成物を基板上に塗布し、感光層を形成する感光層形成工程と、光の透過を遮る遮光層と、高低パターン層のパターンに沿って形成された開口部とを有し、200nm〜500nmの範囲内の波長を40%以上吸収するフィルターが、開口部の一部に配置されているマスクを用い、マスクを介して、感光層を露光する露光工程と、露光された感光層を現像することにより、マスクの開口部のうちフィルターが配置されている領域に該当する感光層が低部となる高低パターン層を形成する高低パターン層形成工程とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板と、前記基板上に形成され、高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層とを有し、前記高低パターン層がフォトリソグラフィー法により同一材料で同時に製造される高低パターン層形成体の製造方法であって、
光硬化型樹脂組成物を前記基板上に塗布し、感光層を形成する感光層形成工程と、
光の透過を遮る遮光層と、前記高低パターン層のパターンに沿って形成された開口部とを有し、200nm〜500nmの範囲内の波長を40%以上吸収するフィルターが、前記開口部の一部に配置されているマスクを用い、前記マスクを介して、前記感光層を露光する露光工程と、
前記露光された感光層を現像することにより、前記マスクの開口部のうちフィルターが配置されている領域に該当する感光層が低部となる高低パターン層を形成する高低パターン層形成工程と、
を有することを特徴とする高低パターン層形成体の製造方法。
IPC (5件)：
G03F7/20
, G02F1/13
, G02F1/1337
, G02F1/1339
, G03F1/08
G03F7/20 501
, G02F1/13 101
, G02F1/1337
, G02F1/1339 500
, G03F1/08 G
2H088FA21
, 2H088HA01
, 2H088HA03
, 2H088HA11
, 2H088HA28
, 2H088MA20
, 2H089LA07
, 2H089LA09
, 2H089QA16
, 2H089TA01
, 2H089TA04
, 2H089TA06
, 2H089TA12
, 2H089TA13
, 2H089TA18
, 2H090LA02
, 2H090LA15
, 2H090LA16
, 2H090MA01
, 2H095BC05
, 2H097GA45
, 2H097LA12
