硬化型フォトレジストとこれを用いる画像形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：牧野逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-372396
公開番号（公開出願番号）：特開2005-134743
出願日： 2003年10月31日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【課題】耐溶剤性にすぐれ、そのうえ、高強度で高耐熱性を有するポジ型画像を与える硬化型フォトレジストとそのような硬化型フォトレジストを用いる画像形成方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、分子中に少なくとも1つのイミド基と共に、2つ以上の不飽和基及び/又はエポキシ基を有する硬化性有機化合物と、ヘテロ原子に結合するカルボニル基を主鎖に有する樹脂バインダーと、光酸発生剤とを有することを特徴とする硬化型フォトレジストが提供される。更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記硬化型フォトレジストを用いる方法が提供される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

分子中に少なくとも1つのイミド基と共に、2つ以上の不飽和基及び/又はエポキシ基を有する硬化性有機化合物と、ヘテロ原子に結合するカルボニル基を主鎖に有する樹脂バインダーと、光酸発生剤とを有することを特徴とする硬化型フォトレジスト。

IPC (9件)：

G03F7/004 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F22/40 , C08F36/00 , C08G59/26 , G03F7/037 , G03F7/32 , H01L21/027

FI (9件)：

G03F7/004 501 , C08F2/44 C , C08F2/50 , C08F22/40 , C08F36/00 , C08G59/26 , G03F7/037 , G03F7/32 , H01L21/30 502R

Fターム (59件)：

2H025AA10 , 2H025AA13 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025CB25 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H096AA25 , 2H096AA26 , 2H096AA27 , 2H096BA11 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096GA09 , 4J011PA97 , 4J011PB39 , 4J011PC02 , 4J011QA11 , 4J011QA33 , 4J011QA39 , 4J011RA06 , 4J011RA07 , 4J011RA10 , 4J011RA11 , 4J011SA73 , 4J011SA80 , 4J011SA83 , 4J011SA87 , 4J011SA90 , 4J011UA01 , 4J011VA01 , 4J011WA01 , 4J036AC01 , 4J036AC07 , 4J036AC16 , 4J036DC34 , 4J036EA01 , 4J036EA02 , 4J036EA06 , 4J036EA07 , 4J036GA26 , 4J036HA02 , 4J036JA09 , 4J036KA01 , 4J100AM55P , 4J100AQ05P , 4J100AQ25P , 4J100BA02P , 4J100BC43P , 4J100BC45P , 4J100DA39 , 4J100DA61 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

アセタール又はその環状誘導体の側鎖を有するポリアミド及びそれから調製された耐熱性ホトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-226637 出願人：コリアリサーチインスティチユートオブケミカルテクノロジイ
ナフトール構造を有するイオン形光酸発生剤及びこれを用いた感光性ポリイミド組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-398334 出願人：三星電子株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-372757 出願人：富士写真フイルム株式会社

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