特許
J-GLOBAL ID：200903036839026218
露光方法
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-174807
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331893
出願日： 2004年05月18日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面に高い間隔精度で繰り返しパターンを形成できる露光方法を提供できるようにすることである。【解決手段】 原図基板上の繰り返しパターンを被露光試料の側表面に露光するに際し、露光する工程と、被露光試料の側表面が該繰り返しパターンの1周期に相当する距離に露光倍率を乗じた距離またはその整数倍だけ回転するように該被露光試料を回転させる工程とを、交互に繰り返す。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原図基板上の繰り返しパターンを、被露光試料の側表面に露光するに際し、前記原図基板上の繰り返しパターンを露光する工程と、前記被露光試料の側表面が該繰り返しパターンの1周期に相当する距離に露光光学系の倍率を乗じた距離または該距離の整数倍だけ回転するように該被露光試料を回転させる工程とを含み、前記両工程を交互に繰り返すことを特徴とする露光方法
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
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円筒状ワークのマスキング方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願2002-286450 出願人：新東ブレーター株式会社 -
円筒状フォトマスク及びその製造方法並びに円筒状フォトマスクを用いた動圧発生溝の形成方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願平8-161093 出願人：セイコー精機株式会社 -
特許第6312134号
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