特許
J-GLOBAL ID：200903036980456625
機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドへの透明窓の形成
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-221737
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083977
出願日： 1997年08月18日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】【課題】 機械化学的ポリッシング(CMP)装置によるCMPプロセスにおいて、プロセス終点を正確に決定するための手段を提供すること。【解決手段】 本発明は、上記課題を解決すべく、CMP装置10用のポリッシングパッド18およびそれを製作する方法を提供している。ポリッシングパッド18は、ポリッシング面を持つ被覆層22と、プラテン16に隣接する裏打ち層20とを有する。第1の断面積を持つ被覆層22の第1開口630と、第2の、異なる断面積を持つ裏打ち層20の第2開口632とが、ポリッシングパッド18を貫通する開口612を形成する。実質的に透明なポリウレタンプラグ600がその開口に配置され、接着剤614がそのプラグ600をその開口612に固定する。
請求項（抜粋）：
機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドであって、ポリッシング面と、前記ポリッシング面に形成され、第1の寸法を持つ第1セクションおよび異なる第2の寸法を持つ第2セクションを含む開口と、前記開口の前記第1セクション内に位置決めされた第1部分と、前記開口の前記第2セクション内に位置決めされた第2部分とを有する実質的に透明なプラグと、前記プラグを前記開口内に固定する手段と、を備えるポリッシングパッド。
IPC (2件)：
H01L 21/304 321
, B24B 37/00
H01L 21/304 321 E
, B24B 37/00 C
