特許
J-GLOBAL ID：200903037019777347
円筒状基材の塗布方法及び該塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-254662
公開番号（公開出願番号）：特開平10-099761
出願日： 1996年09月26日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：
【要約】【課題】 円筒状基材に対して低粘度や高粘度の塗布液においてもビード切れがなく、またビードの振動がなく安定であり、膜厚変動のない優れた円筒状基材の塗布方法を提供する。【解決手段】 エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状の基材を移動させながら、塗布液を塗布液分配室から該分配室スリットを通して前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該ホッパー塗布面であるスライド面上に流出させ、前記円筒状基材とホッパー塗布面の先端部にビードを形成させて連続塗布を行う塗布方法において、前記ビード有効長Xが20μ以上、2mm以下、前記ビードのメニスカス最小曲率半径Rが50μ以上、800μ以下であり、前記スライド面角が10〜70度であることを特徴とする円筒状基材の塗布方法である。
請求項（抜粋）：
エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させながら、塗布液を塗布液分配室から該分配室スリットを通して前記円筒状基材の周面を取り囲むように円筒状基材全周にわたって近接形成されたスライド面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該スライド面上に流出させ、前記円筒状基材とスライド面の先端部にビードを形成させて連続塗布を行う塗布方法において、前記ビード有効長Xが20μ〜2mmで、前記ビードのメニスカス最小曲率半径Rが50μ〜800μであり、前記円筒状スライド面角θが10〜70度であることを特徴とする円筒状基材の塗布方法。
IPC (3件)：
B05C 5/00 101
, B05D 1/26
, B05D 7/14
B05C 5/00 101
, B05D 1/26 Z
, B05D 7/14 K
