半導体製造装置とそれを用いた半導体製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野河信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-365002
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207687
出願日： 2003年10月24日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】ウェハ温度を精度よく管理すること。【解決手段】ウェハ101を載置して回転する回転テーブル109と、回転テーブル109を収容するチャンバー104と、ウェハ101を加熱するためにチャンバー104内に設けられたヒータ103と、ウェハ101の温度を検知する温度検知素子106と、温度検知素子106の出力を測定温度を表わす信号に変換して出力する温度測定部107と、温度測定部の出力をチャンバーの外から認識できる信号に変換して出力する信号生成部400を備え、温度検知素子106と温度測定部107と信号生成部400が回転テーブル109に付設されてなる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウェハを載置して回転する回転テーブルと、回転テーブルを収容するチャンバーと、ウェハを加熱するためにチャンバー内に設けられたヒータと、ウェハの温度を検知する温度検知素子と、温度検知素子の出力を測定温度を表わす信号に変換して出力する温度測定部と、温度測定部の出力をチャンバーの外から認識できる信号に変換して出力する信号生成部を備え、温度検知素子と温度測定部と信号生成部が回転テーブルに付設されてなる半導体製造装置。

IPC (4件)：

H01L21/205 , C23C16/46 , H01L21/265 , H01L21/3065

FI (5件)：

H01L21/205 , C23C16/46 , H01L21/265 603D , H01L21/302 101G , H01L21/265 T

Fターム (21件)：

4K030GA05 , 4K030GA06 , 4K030HA12 , 4K030JA10 , 4K030KA24 , 4K030KA41 , 5F004AA01 , 5F004BA04 , 5F004BB19 , 5F004BB26 , 5F004BB32 , 5F004BD04 , 5F004BD05 , 5F004BD06 , 5F004CB12 , 5F045AA04 , 5F045AB12 , 5F045AC08 , 5F045DP15 , 5F045DQ10 , 5F045GB05

引用特許：

出願人引用 (1件)

実開平4-121734号公報

審査官引用 (5件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-258634 出願人：株式会社日立製作所
特開平1-164037
特開平1-164037

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