特許

J-GLOBAL ID：200903037088668207

ラジカル処理装置

発明者： 飯島 崇文 ,  小林 伸次 ,  江幡 享 ,  久保 貴恵 ,  村田 隆昭 ,  沖田 裕二
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-002932
公開番号（公開出願番号）：特開2006-187743
出願日： 2005年01月07日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：

【課題】低電力での放電を利用したラジカル処理を実現する実用化に適したラジカル処理装置を提供することにある。【解決手段】水槽2内の処理対象水20に対して、放電用電極1から発生する放電によりラジカル処理を行なうラジカル処理装置において、放電用電極1は、円錐形状のように鋭角形状に加工された少なくとも1個以上の突起部材10を有し、当該突起部材10の先端部から放電を行なう。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

処理対象物に対してラジカル処理するためのラジカル処理装置において、 ラジカル処理用ガスを導入する手段と、 放電用高電圧を発生する電源と、 前記ラジカル処理用ガス中で前記放電用高電圧に応じた放電を行なう少なくとも1個以上の突起部材を有する放電用電極と を具備したことを特徴とするラジカル処理装置。

IPC (2件)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/48

FI (2件)：

C02F1/78 ,  C02F1/48 B

Fターム (20件)：

4D050AA12 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BD04 ,  4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061EA13 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB14 ,  4D061EB16 ,  4D061EB26 ,  4D061EB33 ,  4G042CA01 ,  4G042CC04 ,  4G042CC06 ,  4G042CC08 ,  4G042CC16 ,  4G042CE04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• コロナ放電を利用した浄化方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-248037   出願人：株式会社姫科エンジニアリング
• 反応性ガスを用いた物質処理方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-273255   出願人：株式会社安川電機
• 反応性ガスの発生方法およびその発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-273254   出願人：株式会社安川電機
• 廃水の浄化処理方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-097177   出願人：太陽化学工業株式会社

審査官引用 (1件)

• 反応性ガスを用いた物質処理方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-273255   出願人：株式会社安川電機