特許
J-GLOBAL ID:200903037192703871
発光素子の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-067184
公開番号(公開出願番号):特開2001-250693
出願日: 2000年03月07日
公開日(公表日): 2001年09月14日
要約:
【要約】【課題】 基板の材質等にかかわりなく容易に所定形状の絶縁層を形成することができる発光素子の製造方法を提供する。【解決手段】 基板1と、基板1上に形成された発光層5R,5G,5Bと、発光層5R,5G,5Bを互いに区画する絶縁層3と、を備える発光素子の製造方法において、絶縁層3を電子写真法により形成する工程を含む。
請求項(抜粋):
基板と、前記基板上に形成された発光層と、前記発光層を互いに区画する絶縁層と、を備える発光素子の製造方法において、前記絶縁層を電子写真法により形成する工程を含むことを特徴とする発光素子の製造方法。
IPC (4件):
H05B 33/22
, H05B 33/10
, H05B 33/12
, H05B 33/14
FI (4件):
H05B 33/22 Z
, H05B 33/10
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
Fターム (5件):
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007EB02
, 3K007FA01
, 3K007FA03
引用特許:
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