特許
J-GLOBAL ID：200903037205698015
処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-084919
公開番号（公開出願番号）：特開平11-265868
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：
【要約】【課題】 回転軸が貫通する箇所や処理液の供給ノズルが突き出ている箇所の気密性を向上できる処理装置を提供する。【解決手段】 中空に形成した回転軸23の上方に支持された回転テーブル21と一体となって回転するウェハWの裏面に回転軸23内を貫通する支持軸25の上端に支持された供給ノズル30から処理液を供給することによりウェハWの裏面を処理する処理装置6において,回転軸23をカバー32で覆い,回転軸23が貫通するカバー32及び容器20の箇所33近傍の雰囲気を密閉する第1のラビリンスシール34と,回転テーブル21から供給ノズル30が突き出ている箇所50近傍の雰囲気を密閉する第2のラビリンスシール51とを設けた。
請求項（抜粋）：
中空に形成した回転軸の上方に支持された回転テーブルと一体となって回転する基板の裏面に該回転軸内を貫通して支持された供給ノズルから処理液を供給することにより基板の裏面を処理する処理装置において,前記回転軸をカバーで覆い,前記カバーと前記回転テーブルとの間に雰囲気を密封する第1のシール部を設けたことを特徴とする,処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 643
, H01L 21/304 651
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 651 B
