特許
J-GLOBAL ID：200903037215149966
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229353
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086142
出願日： 1993年09月16日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】ガラス基板上に形成されたクロムパターンをウェハー上に投影露光する場合に、光量の低下がなく、またX,Yだけでなく45°方向のパターンに対しても解像力及び焦点深度を向上する。【構成】ガラス基板31上に光を透過する材料により8角形状のパターン36を設ける。これにより、X方向,Y方向だけでなく45°方向135°方向にも回折光を生じ、マスクパターンのウェハー上への転写時に解像度及び焦点深度を向上する。
請求項（抜粋）：
光源から出た光を、フライアイレンズ及びアパチャを含む照明光学系を介し、クロム等の庶光体でパターンの形成されているマスク上に照射し、前記パターンを投影レンズを介し、ウェハー上に転写する投影露光装置に於いて、光透過材料により、複数の8角形状パターンの形成されたガラス基板を前記照明光学系中に有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 527
, H01L 21/30 515 D
