特許
J-GLOBAL ID：200903037308001845
密閉キャビティ内にガス相を充填する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-333307
公開番号（公開出願番号）：特開平10-176797
出願日： 1997年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】【課題】 構造体内に存在する密閉されたキャビティ内にガス相を充填する方法を提供する。【解決手段】 キャビティ15内にガス相を生成することができる複数のイオンを注入するためにイオン注入を行い、この注入は、キャビティ15に到達しうるのに十分な注入エネルギーを各イオンに供給し、かつ、キャビティ15内で所定圧力を得るのに十分な量をもって行われることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
構造体内に存在する少なくとも一つの密閉されたキャビティ内にガス相を充填する方法において、前記キャビティ内に所望のガス相を生成することができる複数のイオンを注入するためにイオン注入を行い、前記注入は、前記イオンが前記キャビティに到達しうるのに十分な注入エネルギーでかつ、該キャビティ内で所定圧力を得るのに十分な量をもって行われることを特徴とする方法。
引用特許：
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