特許
J-GLOBAL ID：200903037364778666
化学増幅ポジ型レジスト材料
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-286860
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211597
出願日： 1995年10月06日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】【解決手段】 分子量が100〜1,000であるフェノール性水酸基を有する化合物を溶解促進剤として含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。【効果】 本発明の化学増幅ポジ型レジスト材料は、例えば遠紫外線、電子線、X線等の高エネルギー線、特にKrFエキシマレーザーに感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性に優れた微細加工技術に適した高解像性を有するもので、実用性の高いものである。
請求項（抜粋）：
分子量が100〜1,000であるフェノール性水酸基を有する化合物を溶解促進剤として含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。
IPC (4件)：
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
