特許
J-GLOBAL ID：200903031343598244

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
林 理生

林 理生 について

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宮村 雅隆

宮村 雅隆 について

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大西 廉伸

大西 廉伸 について

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佐藤 一夫

佐藤 一夫 について

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千葉 謙治

千葉 謙治 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079113
公開番号（公開出願番号）：特開平6-266111
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】レジスト材料として好適に用いられる感光性組成物であって、短波長の光源に対して高感度、高解像性であり、且つ膜の状態で相分離を生じることなく、安定して微細なレジストパターンを得ることの可能な感光性組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性重合体のアルカリ可溶性基を、酸に対して不安定な基によって保護してなる重合体と、露光により酸を発生する化合物と、イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、及びアデノシン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のアミン化合物と、フェノール化合物とを、必須成分として含有する感光性組成物。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性ポリマーのアルカリ可溶性基を、酸に対して不安定な基によって保護してなるポリマーと、(b)露光により酸を発生する化合物と、(c)イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、及びアデノシン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のアミン化合物とを、必須成分として含有する感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (20件)
  • 特開平4-217251
  • 特開平3-206458
  • 特開平4-134345
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