レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：西川繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-303235
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181680
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及びプロセス余裕度などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。パターン形状に優れたパターンを形成する方法を提供すること。【構成】(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)フェノール化合物を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)フェノール化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-217251
特開平4-134345
特開平3-206458

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