特許
J-GLOBAL ID:200903037442920032

湿式表面処理方法および湿式表面処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): アイアット国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-258739
公開番号(公開出願番号):特開2009-084659
出願日: 2007年10月02日
公開日(公表日): 2009年04月23日
要約:
【課題】被処理物の湿式表面処理に適した湿式表面処理方法および湿式表面処理装置を提供する。【解決手段】湿式表面処理方法は、1つまたは複数の開口部を通じて液体の出入りが可能な被処理物(管状物6)を回転軸7に固定した状態で、湿式表面処理している最中、または湿式表面処理をする前もしくは後に、回転軸7を回転させることで被処理物を重力方向に、または重力方向に対して斜めに回転させる。湿式表面処理装置(電解めっき処理装置1)は、その回転中心軸が重力方向に対して垂直または斜めの位置関係にある回転軸7と、回転軸7を回転させる回転駆動部8と、回転軸7の周面に配置され、回転軸7と共に回転するばね性または可撓性を有する棒状のめっき用陽極2と、回転軸7の周面に配置され回転軸7と共に回転する陰極治具9と、回転軸7とは離れた位置に配置され回転しない第2のめっき用陽極10と、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
1つまたは複数の開口部を通じて液体の出入りが可能な被処理物を回転軸に固定した状態で、湿式表面処理している最中、または上記湿式表面処理をする前もしくは後に、上記回転軸を回転させることで上記被処理物を重力方向に、または重力方向に対して斜めに回転させることを特徴とする湿式表面処理方法。
IPC (8件):
C25D 17/00 ,  C25D 17/06 ,  C25D 17/12 ,  C25D 17/08 ,  C25D 21/00 ,  C25D 21/10 ,  C23C 18/31 ,  C25D 7/00
FI (9件):
C25D17/00 B ,  C25D17/06 A ,  C25D17/12 J ,  C25D17/08 R ,  C25D21/00 B ,  C25D21/10 302 ,  C25D17/08 A ,  C23C18/31 E ,  C25D7/00 S
Fターム (7件):
4K022AA33 ,  4K022DB15 ,  4K022DB30 ,  4K024BC05 ,  4K024CB02 ,  4K024CB04 ,  4K024CB06
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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