特許

J-GLOBAL ID：200903037550289888

レーザ描画装置

発明者： 奥山 隆志
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-321003
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142225
出願日： 1999年11月11日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 被描画体の寸法変動に対して、適性かつ高精度なスケーリング補正処理を行う。【解決手段】 略長方形状の基板20の4隅に位置決めマークP1、P2、P3およびP4を設け、各相対座標を求める。位置決めマークP1、P2、P3、P4の座標に基いて、直線P1-P2および直線P3-P4の主走査(Y)方向における伸縮率および主走査方向に対する傾きを算出する。副走査(X)方向について伸縮率および傾きが線形変化するとみなし、中間の走査ラインの伸縮率および傾きを求め、Xテーブル14およびθテーブル16により基板20を位置決めする。さらに、傾きを修正したときの基板20の回転に起因した誤差を求めて、基板20の位置を修正する。

請求項（抜粋）：

被描画体をレーザビームにより主走査方向に沿って繰り返し走査させるとともに、前記被描画体を主走査方向と交差する副走査方向に沿って搬送することにより、前記被描画体を主走査方向に沿うラインごとに描画するレーザ描画装置であって、前記被描画体を固定し、前記被描画体を副走査方向に送り得るとともに、所定の回転中心を中心に前記被描画体を回転し得るテーブルと、前記被描画体に設けられた複数の位置決めマークの相対位置を検出する検出手段と、検出された前記位置決めマークの相対位置に基づいて、各ラインについて、主走査方向に対する傾きと主走査方向における基準ライン長さに対する伸縮率とを直線近似して算出する演算手段と、前記傾きおよび前記伸縮率に基いて、前記被描画体の描画開始位置および回転位置を調整する調整手段とを備えるレーザ描画装置。

IPC (5件)：

G03F 7/20 505 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/08 ,  G03F 9/00 ,  B23K101:42

FI (6件)：

G03F 7/20 505 ,  B23K 26/00 M ,  B23K 26/00 H ,  B23K 26/08 F ,  G03F 9/00 Z ,  B23K101:42

Fターム (14件)：

2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097CA17 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA28 ,  2H097LA09 ,  4E068CA14 ,  4E068CB02 ,  4E068CC02 ,  4E068CE02 ,  4E068CE04 ,  4E068CE09 ,  4E068DA11

引用特許：

出願人引用 (4件)

• レーザ描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-103872   出願人：旭光学工業株式会社
• 特開昭62-124999
  
• 検版装置における画像データの位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-340256   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 製版装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-300081   出願人：ソニー株式会社