光活性化合物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江崎光史 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-524474
公開番号（公開出願番号）：特表平10-513576
出願日： 1996年02月09日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】トリスヒドロキシフェニルエタン 80/20〜50/50 2,1,5-/2,1,4-ジアゾナフトキノンスルホネート、及びトリスヒドロキシベンゾフェノン 0/100〜20/80 2,1,5-/2,1,4-ジアゾナフトキノンスルフェートからなる感光剤、及びこのような感光剤及び水不溶性の水性アルカリ可溶性ノボラック樹脂を含むフォトレジスト組成物(この際、この感光剤は、フォトレジスト組成物を均一に感光化するのに十分な量でフォトレジスト組成物内に存在し、そしてこのノボラック樹脂は、実質的に均一なフォトレジスト組成物を形成するのに十分な量でフォトレジスト組成物内に存在する)。

請求項（抜粋）：

以下の(a)と(b)との混合物を含むポジ型フォトレジスト組成物: (a) 約 25 重量%〜約 85 重量%の量のトリスヒドロキシフェニルエタン80/20〜50/50 2,1,5-/2,1,4-ジアゾナフトキノンスルホネート、及び約 15 重量%〜約 75 重量%の量のトリスヒドロキシベンゾフェノン 0/100〜20/80,2,1,5-/2,1,4-ジアゾナフトキノンスルフェートからなる感光剤(この際この感光剤は、フォトレジスト組成物を均一に感光化するのに十分な量でフォトレジスト組成物内に存在する);及び (b) 水不溶性の水性アルカリ可溶性のノボラック樹脂(この際このノボラック樹脂は、実質的に均一なフォトレジスト組成物を形成するのに十分な量でフォトレジスト組成物内に存在する)。

IPC (2件)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 501

FI (2件)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 501

引用特許：

出願人引用 (3件)

ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-509200 出願人：ヘキストセラニーズコーポレーション, インターナショナルビジネスマシーンズコーポレーション
特開平2-010348
迅速なジアゾキノンポジレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-268469 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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