特許
J-GLOBAL ID：200903037608991510
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-079693
公開番号（公開出願番号）：特開2009-238802
出願日： 2008年03月26日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：
【課題】基板と基板との間隙における処理液の流速を向上させ、基板と基板との間隙に下向きの流れが発生することを防止することにより、処理液中のパーティクルや排液すべき成分の排出効率を向上させ、また、複数枚の基板の処理状態を均一化できる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置1は、内槽11の側壁11cに設けられた整流板61と、リフタ20の背板22に設けられた整流板62とを有する。処理液中に浸漬された複数枚の基板Wの側方の領域A1,A2においては、整流板61,62がそれぞれ抵抗となり、これらの領域A1,A2における処理液の流れが抑制される。したがって、複数枚の基板Wの間隙A3における処理液の流速が向上する。これにより、複数枚の基板Wの間隙A3に下向きの流れが発生することを防止でき、処理液中のパーティクルや排液すべき成分を効率よく排出できるとともに、複数枚の基板Wの処理状態を均一化できる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理液中に複数枚の基板を浸漬することにより、複数枚の基板を処理する基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
背板と背板から水平方向にのびる載置部とを有し、前記処理槽の内部において前記載置部上に複数枚の基板を配列して保持する基板保持部と、
前記処理槽の底部付近から処理液を吐出する第1のノズルと、
前記載置部に対して前記背板と反対側に位置する前記処理槽の側壁に設けられ、複数枚の基板と前記側壁との間を流れる処理液に対して抵抗となる第1の整流手段と、
前記背板に設けられ、複数枚の基板と前記背板との間を流れる処理液に対して抵抗となる第2の整流手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304
, H01L 21/306
, H01L 21/027
H01L21/304 642A
, H01L21/306 J
, H01L21/30 572B
5F043AA01
, 5F043EE09
, 5F046MA06
, 5F046MA10
, 5F157AA64
, 5F157AA91
, 5F157AB03
, 5F157AB13
, 5F157AB34
, 5F157AB74
, 5F157AC01
, 5F157BB03
, 5F157BB04
, 5F157BB07
, 5F157BB09
, 5F157CF60
, 5F157CF66
, 5F157DB02
, 5F157DB37
