特許

J-GLOBAL ID：200903037646052471

粒子集積構造体の製造方法

発明者： 黒田 真一
出願人/特許権者： 国立大学法人群馬大学
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-107282
公開番号（公開出願番号）：特開2005-288325
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：

【課題】 大面積領域を持つ微粒子の二次元集積構造体を簡便に作製できる、新しい粒子集積構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 微粒子の乳液を基板表面に付着させ、前記基板を回転させて微粒子の乳液に遠心力をかけて、微粒子を二次元集積化させて構造体を製造する方法において、微粒子表面の電荷を制御して二次元集積化させる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

微粒子の乳液を基板表面に付着させ、前記基板を回転させて微粒子の乳液に遠心力をかけて、微粒子を二次元集積化させて構造体を製造する方法において、微粒子表面の電荷を制御して二次元集積化させることを特徴とする粒子集積構造体の製造方法。

IPC (4件)：

B05D1/40 ,  B05C11/08 ,  B05D3/14 ,  B82B3/00

FI (4件)：

B05D1/40 A ,  B05C11/08 ,  B05D3/14 ,  B82B3/00

Fターム (15件)：

4D075AC64 ,  4D075AC91 ,  4D075BB81Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075DC22 ,  4D075EA13 ,  4D075EB22 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042BA05 ,  4F042DF32 ,  4F042EB11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 微粒子薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-216663   出願人：新技術事業団, 永山国昭
• ナノスケール微粒子の2次薄膜集積法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-242237   出願人：新技術事業団