特許
J-GLOBAL ID:200903037661277641

導電性パターン材料及び導電性パターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-386491
公開番号(公開出願番号):特開2003-188498
出願日: 2001年12月19日
公開日(公表日): 2003年07月04日
要約:
【要約】【課題】 露光により高感度でパターン形成することができ、高解像度で、断線のない微細なパターンが得られ、且つ、赤外線レーザによりデジタルデータに基づき直接パターン形成が可能な導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法を提供する。【解決手段】 支持体上に、該支持体表面に直接結合した親水性パターンを形成したのち、該親水性パターン上に導電性ポリマー層を形成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
支持体上に、該支持体表面に直接結合した親水性パターンを形成したのち、該親水性パターン上に導電性ポリマー層を形成することを特徴とする導電性パターン材料。
IPC (6件):
H05K 3/10 ,  G03F 7/40 521 ,  H01B 13/00 503 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/288 ,  H01L 23/14
FI (8件):
H05K 3/10 Z ,  G03F 7/40 521 ,  H01B 13/00 503 D ,  H01L 21/288 M ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 568 ,  H01L 23/14 R
Fターム (23件):
2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096CA05 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104HH09 ,  4M104HH14 ,  5E343AA16 ,  5E343DD80 ,  5E343EE34 ,  5E343GG08 ,  5F046JA19 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27 ,  5G323CA04
引用特許:
審査官引用 (7件)
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