特許
J-GLOBAL ID:200903037661277641
導電性パターン材料及び導電性パターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-386491
公開番号(公開出願番号):特開2003-188498
出願日: 2001年12月19日
公開日(公表日): 2003年07月04日
要約:
【要約】【課題】 露光により高感度でパターン形成することができ、高解像度で、断線のない微細なパターンが得られ、且つ、赤外線レーザによりデジタルデータに基づき直接パターン形成が可能な導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法を提供する。【解決手段】 支持体上に、該支持体表面に直接結合した親水性パターンを形成したのち、該親水性パターン上に導電性ポリマー層を形成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
支持体上に、該支持体表面に直接結合した親水性パターンを形成したのち、該親水性パターン上に導電性ポリマー層を形成することを特徴とする導電性パターン材料。
IPC (6件):
H05K 3/10
, G03F 7/40 521
, H01B 13/00 503
, H01L 21/027
, H01L 21/288
, H01L 23/14
FI (8件):
H05K 3/10 Z
, G03F 7/40 521
, H01B 13/00 503 D
, H01L 21/288 M
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 564 Z
, H01L 21/30 568
, H01L 23/14 R
Fターム (23件):
2H096AA27
, 2H096AA30
, 2H096BA05
, 2H096CA05
, 2H096EA02
, 2H096EA04
, 2H096GA08
, 2H096HA30
, 2H096JA04
, 4M104BB36
, 4M104CC01
, 4M104DD22
, 4M104DD51
, 4M104HH09
, 4M104HH14
, 5E343AA16
, 5E343DD80
, 5E343EE34
, 5E343GG08
, 5F046JA19
, 5F046JA22
, 5F046JA27
, 5G323CA04
引用特許:
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