特許
J-GLOBAL ID：200903037676004501
半導体製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中井 潤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-363962
公開番号（公開出願番号）：特開2003-163197
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】 半導体デバイスの製造過程で付着した異物を高速で洗浄し、生産性を向上させることが可能な半導体製造装置を提供する。【解決手段】 半導体デバイス1の表面を洗浄液によって洗浄する洗浄ユニット21と、半導体デバイス1の表面に付着した洗浄液を気体を吹き付けて除去するブローユニット31と、半導体デバイス1に付着した洗浄液を乾燥させる乾燥ユニット41とが連続して配置され、洗浄ユニット21、ブローユニット31及び乾燥ユニット41の順に各々のユニットの中を略々直線的に半導体デバイス1を搬送する搬送手段61とを備える半導体製造装置。搬送手段61は、複数対のローラー63、64を備えるローラー搬送装置とすることができる。
請求項（抜粋）：
半導体デバイスの表面を洗浄液によって洗浄する洗浄ユニットと、前記半導体デバイスの表面に付着した洗浄液を気体を吹き付けて除去するブローユニットと、前記半導体デバイスに付着した洗浄液を乾燥させる乾燥ユニットとが連続して配置され、該洗浄ユニット、ブローユニット及び乾燥ユニットの順に各々のユニットの中を略々直線的に半導体デバイスを搬送する搬送手段とを備えることを特徴とする半導体製造装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 651
, H01L 21/304
H01L 21/304 651 G
, H01L 21/304 651 L
