基板の搬送装置及び処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-088506
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286223
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】この発明は基板を部分的に加熱し過ぎることなく加熱乾燥することができるよう搬送する搬送装置を提供することにある。【解決手段】一端側に上記基板の搬入口12、他端側に搬出口13が形成された処理槽14と、この処理槽内に上記基板の搬送方向に沿って所定間隔で配置された複数の回転軸16と、各回転軸に接離方向にスライド可能に装着されたそれぞれ一対の搬送ローラ22a,22bと、上記回転軸を回転駆動することで上記基板に転接する上記搬送ローラによって上記基板を搬送させる駆動源19a,19bとを具備し、各一対の搬送ローラを上記回転軸に離間して設けるときに、各一対の搬送ローラの対向する端面間の隙間の位置を、上記基板の搬送方向に対してその搬送方向と交差する方向にずらしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板を処理するための搬送装置において、一端側に上記基板の搬入口、他端側に搬出口が形成された処理槽と、この処理槽内に上記基板の搬送方向に沿って所定間隔で配置された複数の回転軸と、各回転軸に接離方向にスライド可能に装着されたそれぞれ一対の搬送ローラと、上記回転軸を回転駆動することで上記基板に転接する上記搬送ローラによって上記基板を搬送させる駆動手段とを具備し、各一対の搬送ローラを上記回転軸に離間して設けるときに、各一対の搬送ローラの対向する端面間の隙間の位置を、上記基板の搬送方向と交差する方向にずらしたことを特徴とする基板の搬送装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304 651 , H01L 21/304 , B65G 49/07 , H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/304 648 A , H01L 21/304 651 L , H01L 21/304 651 M , B65G 49/07 B , H01L 21/68 A

Fターム (9件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031GA53 , 5F031MA23 , 5F031PA11 , 5F031PA16

引用特許：

審査官引用 (5件)

液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-104266 出願人：株式会社日立製作所
エアナイフ、エアナイフの支持装置およびエアナイフを用いた処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-015334 出願人：株式会社芝浦製作所
搬送ローラ
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-133163 出願人：株式会社日立製作所

全件表示

前のページに戻る