特許
J-GLOBAL ID:200903037764957683
感刺激性組成物及び化合物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-106524
公開番号(公開出願番号):特開2004-139014
出願日: 2003年04月10日
公開日(公表日): 2004年05月13日
要約:
【課題】感度、パターンプロファイル、疎密依存性が優れ、且つ経時保存時にパーティクルを発生し難い感刺激性組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表される酸発生剤を含有する感刺激性組成物。一般式(I)中、Arは、アリール基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。R6は水素原子、シアノ基、アルキル基又はアリール基を表す。R7は、1価の有機基を表す。Y1及びY2は、同じでも異っていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。Y1とY2が結合して環を形成してもよい。ArとY1及びY2の少なくとも一つが結合して環を形成してもよい。ArとR6が結合して環を形成してもよい。R6とR7が結合して環を形成してもよい。X-は、非求核性アニオンを表す。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(A)外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (20件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA11
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC17
, 2H025FA17
引用特許:
審査官引用 (17件)
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スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-332968
出願人:日本電気株式会社
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エネルギー活性なスルホニウム塩及びその用途
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-360330
出願人:住友化学工業株式会社
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特許第4149141号
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特許第4231635号
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特許第4117117号
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特許第4025039号
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特許第3827290号
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特許第4149194号
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特許第4149141号
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特許第4231635号
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特許第4117117号
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特許第4025039号
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特許第3827290号
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特許第4149194号
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特開平2-179643
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特開平1-045357
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特開平1-029419
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