特許
J-GLOBAL ID：200903058092237919

エネルギー活性なスルホニウム塩及びその用途

発明者：
釜淵 明

釜淵 明 について

, 
高田 佳幸

高田 佳幸 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-360330
公開番号（公開出願番号）：特開2004-026789
出願日： 2002年12月12日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】酸性度の強いアニオン種を有する新規なスルホニウム塩を提供するとともに、これと樹脂成分とを含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適し、孤立パターンの解像性に優れた化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】〔1〕下式(I’)で示されるスルホニウム塩。(式中、Qは、記載のS+とともに環を完成する炭素数3〜7の脂環式炭化水素基を表す。Q3は、水素原子を表し、Q4はC1〜6のアルキル基、C3〜10のシクロアルキル基、C6〜14のアリール基を表すか、又はQ3とQ4が結合して隣接するCHC(O)基と一緒になって2-オキソシクロアルキル基を表す。Q5、Q6はC1〜4のパーフルオロアルキル基を表す。)〔2〕、前記〔1〕に記載のスルホニウム塩と酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂と、を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下式(I)で示されるスルホニウム塩。
IPC (5件)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039
FI (5件)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601
Fターム (15件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76
引用特許：
審査官引用 (7件)
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