超純水中の水酸化物イオンによる洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳野隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-347599
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173970
出願日： 1998年12月07日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】水中での超音波による洗浄等では除去することが困難な微細な不純物金属を完全に除去し、再付着することを防止し、洗浄を高能率で行うことが可能な超純水中の水酸化物イオンによる洗浄方法を提供する。【解決手段】超純水のみからなる洗浄槽内に被洗浄物2と高圧力ノズル1とを所定の間隔を置いて配設し、被洗浄物の洗浄面に対面する高圧力ノズルの先端周囲に、水酸化物イオンを増加させるイオン交換材料4又は触媒材料を設け、高圧力ノズルを陰極、被洗浄物を陽極として電圧を印加し、被洗浄物の表面近傍に高圧力ノズルから噴射した超純水の高速剪断流を発生させ、超純水から生成された水酸化物イオンを被洗浄物表面に供給し、被洗浄物表面に付着した微細な不純物金属を、水酸化物イオンとの化学的溶出反応と高速剪断流によって被洗浄物表面から剥離し、除去した不純物金属を高速剪断流の流れによって被洗浄物表面に再付着することを防止した。

請求項（抜粋）：

超純水のみからなる洗浄槽内に被洗浄物と高圧力ノズルとを所定の間隔を置いて配設し、該被洗浄物の洗浄面に対面する高圧力ノズルの先端周囲に、水酸化物イオンを増加させるイオン交換材料又は触媒材料を設け、被洗浄物の表面近傍に高圧力ノズルから噴射した超純水の高速剪断流を発生させるとともに、超純水から生成された水酸化物イオンを被洗浄物表面に供給し、被洗浄物表面に付着した微細な不純物金属を、水酸化物イオンとの化学的溶出反応と高速剪断流によって被洗浄物表面から剥離するとともに、除去した不純物金属を高速剪断流の流れによって被洗浄物表面に再付着することを防止したことを特徴とする超純水中の水酸化物イオンによる洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 647 , H01L 21/304 643 , B08B 3/02 , B08B 3/08

FI (4件)：

H01L 21/304 647 Z , H01L 21/304 643 C , B08B 3/02 A , B08B 3/08 A

Fターム (9件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB42 , 3B201BB02 , 3B201BB22 , 3B201BB81 , 3B201BB89 , 3B201BB90 , 3B201BB93

引用特許：

審査官引用 (4件)

電解イオン水洗浄方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-170967 出願人：富士通株式会社, 大日本スクリーン製造株式会社
ウエット処理方法及び処理装置並びに回転洗浄方法及び回転洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-064019 出願人：株式会社フロンテック, 大見忠弘, オルガノ株式会社
電解イオン水生成装置及び半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-303066 出願人：株式会社東芝

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