特許

J-GLOBAL ID：200903087589165059

ウエット処理方法及び処理装置並びに回転洗浄方法及び回転洗浄装置

発明者： 三森 健一 ,  笠間 泰彦 ,  呉 義烈 ,  大見 忠弘 ,  今岡 孝之
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  大見 忠弘 ,  オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-064019
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261612
出願日： 1997年03月18日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 従来より高い清浄度が達成可能なウエット処理方法及び処理装置並びに回転洗浄方法及び回転洗浄装置を提供すること。【解決手段】 オゾン水による洗浄工程、電解イオン水によるブラシ洗浄工程、電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、電解イオン水による洗浄工程、の少なくとも一つの工程を有する洗浄工程と、乾燥工程、とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

オゾン水による洗浄工程、電解イオン水によるブラシ洗浄工程、電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、電解イオン水による洗浄工程、の少なくとも一つの工程を有する洗浄工程と、乾燥工程、とを有することを特徴とするウエット処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 N

引用特許：

審査官引用 (6件)

• ウエット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-056110   出願人：日本電気株式会社
• ウエット処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185383   出願人：株式会社フロンテック
• ウエハの洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-337385   出願人：シャープ株式会社
• 洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-070903   出願人：株式会社荏原製作所
• 半導体ウェハの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-181444   出願人：シャープ株式会社
• ウエット処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-169956   出願人：株式会社フロンテック, オルガノ株式会社, 大見忠弘