特許
J-GLOBAL ID：200903037944456461
ブラックマトリックス用フォトレジスト
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-279529
公開番号（公開出願番号）：特開平8-137098
出願日： 1994年11月14日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】基板上に、格子状または縞状等の微細な模様の高遮光率を有するブラックマトリックスを精度よく形成しうるフォトレジスト、これを用いてブラックマトリックスを有する基板を製造する方法および該基板を用いてカラーフィルターを製造する方法を提供する。【構成】下記の工程を順に行うブラックマトリックスを有する基板の製造方法。(a)基板面に、上記ブラックマトリックス用フォトレジストを塗布する工程、(b)所定のパターンを有するマスクを重ねて光線を照射する露光工程、(c)不要部分の途膜を除去する現像工程、(d)現像された途膜を再露光または/および熱処理することによりその塗膜の光透過率を低下させる工程、上記製造方法によって得られる、ブラックマトリックスを有する基板の画素部に、三原色の塗膜を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
請求項（抜粋）：
その塗膜に、露光または/および加熱処理を行うことにより、その塗膜の光透過率を低下させることができる性質を有することを特徴とするブラックマトリックス用フォトレジスト。
IPC (5件)：
G03F 7/004 521
, G02B 5/20 101
, G03F 7/022
, G03F 7/023 511
, G03F 7/40 501
