EUVリソグラフィシステムのために調整された反射型回折素子の収差測定方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-507696
公開番号（公開出願番号）：特表2006-514441
出願日： 2004年01月14日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：

本発明は、電磁放射源を有する波面測定システムから成る。結像系は電磁放射を対物面へ配向し、これを均一に照明する。第1の格子は対物面内に配置されており、投影光学系の入射瞳面に達する照明光が調整される。投影光学系は第1の格子の像を焦点面へ投影する。第2の格子は放射源の回折像を受け取る焦点面に配置されており、シアリング干渉計を形成している。CCD検出器は投影光学系および第2の格子を介して第1の格子の像を受け取り、投影光学系に収差があるときには干渉縞を形成する。干渉縞の位相シフトは第1の格子をラテラル方向へステップ運動させ、各フレームをCCD検出器で検出することにより読み出される。第1の格子は複数の反射ドットから成る複数の反射線を含む。

請求項（抜粋）：

対物面を均一に照明するために放射源からの電磁放射を対物面へ配向する結像光学系と、対物面に配置された第1の格子と、第1の格子の像を焦点面へ投影する投影光学系と、焦点面に配置された第2の格子と、第2の格子によって形成された干渉縞を受信する検出器とを有しており、第1の格子のピッチは 1/2×投影光学系の倍率×第2の格子のピッチであることを特徴とする波面測定装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G01M 11/02

FI (3件)：

H01L21/30 531A , H01L21/30 517 , G01M11/02 B

Fターム (5件)：

2G086HH06 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GB09

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-134538
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-032224 出願人：株式会社ニコン
平版投射装置、回折モジュール、センサモジュールおよび波面収差を測定する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-034079 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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