特許
J-GLOBAL ID：200903037983867061
ハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-357074
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241363
出願日： 2002年12月09日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン型位相シフトマスクの微小な欠陥をも確実に検出できるようにする。【解決手段】 ハーフトーン型位相シフトマスクは、透明基板上に半透光膜パターンとこの半透光膜パターンの上に形成された遮光膜パターンとを有して成る。各パターンは、波長248[nm]の露光光に対しては、共に20%以下の反射率を示す一方、波長488[nm]の欠陥検査光に対しては、10%以上の相違を示すように構成されている。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、半透光膜パターンと、この半透光膜パターンの上に形成された遮光膜パターンと、を有するハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、欠陥検査光に対する前記各パターンの反射率が、当該欠陥検査光をこのマスクに照射した際の散乱光に基づいて当該欠陥を検出できる程度の相違を示すように構成されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 K
, G03F 1/08 A
, G03F 1/08 S
, H01L 21/30 502 P
2H095BB03
, 2H095BC11
, 2H095BD02
, 2H095BD12
, 2H095BD13
出願人引用 (2件)
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特開平4-136854号公報(第7-20頁、第1図)
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ハーフトーン型位相シフトマスク
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-068550
出願人：ホーヤ株式会社
審査官引用 (2件)
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