特許
J-GLOBAL ID：200903023833689466
パターン欠陥検査方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-059265
公開番号（公開出願番号）：特開平8-254816
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【目的】試料が位相シフトマスクのようなものの場合でもdie-to-database 検査法で高感度にパターン欠陥を検査できる方法および装置を提供する。【構成】設計パターンデータをビット展開回路11でビットイメージに展開し、この展開されたビットイメージデータに定められた処理を施して得た参照データとセンサ回路6から得られた測定パターンデータとを比較回路8で比較して試料2に形成されているパターンの欠陥有無を判定するパターン欠陥検査装置において、前記ビットイメージデータに、測定パターンデータの取得形態に対応させ、かつ少なくとも試料2に形成されているパターンの遮光部構成材の光学特性に応じた修正を施して得たデータを、比較回路8に参照データとして与えるパターン修正回路31を備えている。
請求項（抜粋）：
試料に形成されているパターン像を検出して得られる測定パターンデータと上記パターンの形成に用いた設計パターンデータとを比較してパターン欠陥の有無を判定するパターン欠陥検査方法において、前記設計パターンデータに、少なくとも前記試料に形成されているパターンの遮光部構成材の特性に応じた修正を施して得た参照設計パターンデータと前記測定パターンデータとを比較してパターン欠陥の有無を判定するようにしたことを特徴とするパターン欠陥検査方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/30
, H01L 21/027
G03F 1/08 S
, H01L 21/30
, H01L 21/30 502 V
