特許
J-GLOBAL ID：200903037988316403
レーザアブレーション成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-121331
公開番号（公開出願番号）：特開平8-311639
出願日： 1995年05月19日
公開日（公表日）： 1996年11月26日
要約：
【要約】【目的】 ワークに形成される高分子膜の分子量を所定の分子量に制御できるレーザアブレーション成膜装置を提供すること【構成】 真空容器1の内部にワーク保持手段4により保持したワーク3を、加熱手段17により加熱し、気体レーザ7からのレーザビーム8を結合孔9bを有するビーム導入手段9を介して成膜材料供給手段6により供給される成膜材料5へ照射するレーザアブレーション成膜装置に於いて、該真空容器にラジカル導入口16を設け、該ラジカル導入口に該真空容器の外部の反応ガスのガス源15にプラズマ発生装置14を介して接続した【効果】 アブレーション物質流の重合反応を促進し制御して所要の膜質の高分子膜を得ることができる
請求項（抜粋）：
排気手段を有する真空容器の内部に、ワークを保持するワーク保持手段と、該ワークの加熱制御手段と、成膜材料を供給する成膜材料供給手段と、該真空容器の外部の気体レーザからのレーザビームを該成膜材料へ照射させるビーム導入手段とを設け、該成膜材料供給手段は成膜材料のアブレーションに伴う消耗を補い且つ該成膜材料とワークとの位置関係を一定に保つ成膜材料繰出し機構を有し、該レーザビームはレーザ制御器により該成膜材料を適切に分解すべくフルーエンスが制御され、該ビーム導入手段を、筒体と該筒体のレーザビーム導入側に設けたレーザ導入レンズとレーザビームの放出側に設けた該レーザビームが焦点を結ぶ小さな結合孔とで構成したレーザアブレーション成膜装置に於いて、該真空容器にラジカル導入口を設け、該ラジカル導入口に該真空容器の外部の反応ガスのガス源にプラズマ発生装置を介して接続したことを特徴とするレーザアブレーション装置。
引用特許：
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