反射防止膜形成組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩見谷周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-325670
公開番号（公開出願番号）：特開2000-143937
出願日： 1998年11月16日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】 KrFエキシマレーザー光に対する高い吸光度を有するとともにレジスト層と同等の屈折率を有し、形成される反射防止膜の膜厚がごく薄くても反射防止効果が高く、解像度及び精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物を提供すること。【解決手段】下記式(1)で示される二価の基を有する重合体を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2〜R6はヒドロキシ基あるいは一価の原子もしくは基である。]

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示される二価の基を有する重合体および溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2〜R5は独立にヒドロキシ基あるいは一価の原子もしくは基である。]

IPC (9件)：

C08L 61/18 , C08J 5/18 , C08L101/00 , C09D133/06 , C09D133/24 , G03F 7/11 503 , C08G 10/00 , C08L 33/06 , C08L 33/24

FI (9件)：

C08L 61/18 , C08J 5/18 , C08L101/00 , C09D133/06 , C09D133/24 , G03F 7/11 503 , C08G 10/00 , C08L 33/06 , C08L 33/24

Fターム (33件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025CB41 , 2H025DA34 , 4F071AA33 , 4F071AA35 , 4F071AA69 , 4F071AH12 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4J002BG04X , 4J002BG05X , 4J002BG13X , 4J002CC183 , 4J002CC193 , 4J002CD003 , 4J002CE00W , 4J002ER006 , 4J002FD143 , 4J002FD146 , 4J002GP03 , 4J033DA01 , 4J033DA02 , 4J033DA12 , 4J038CG142 , 4J038DA101 , 4J038EA011 , 4J038EA012 , 4J038KA03 , 4J038KA06 , 4J038NA19

引用特許：

審査官引用 (3件)

特公昭60-036209
反射防止膜形成用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-215765 出願人：ジェイエスアール株式会社
ポジ型感光性組成物を用いる塗設物及びそれを用いるパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-018916 出願人：富士写真フイルム株式会社

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