電子ビーム露光用マスク欠陥検査方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂上正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-254970
公開番号（公開出願番号）：特開2002-071331
出願日： 2000年08月25日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】電子ビーム露光用マスクの欠陥検査の高速化を図ること。【解決手段】電子ビーム露光用マスクMの欠陥を検査するため、電子ビーム露光用マスクMを電子ビーム走査装置2によって2次元走査して得られた透過電子2Baに基づいてマスク信号S3を得ると共に、電子ビーム露光用マスクMの製造のためのCADデータDTに基づきマスク信号S3の出力に同期してCAD図形に対応するCAD信号S4を得、マスク信号S3とCAD信号S4との比較結果に基づいて電子ビーム露光用マスクMの欠陥を検査するようにした。

請求項（抜粋）：

電子ビーム露光に用いられるマスクの欠陥を検査するための電子ビーム露光用マスク欠陥検査装置において、検査対象のマスクを所与の走査信号に応答して電子ビームにより2次元走査するための電子ビーム走査装置と、前記電子ビームの走査により前記マスクを透過した透過電子に基づき前記マスクの形状に対応したマスク信号を出力するためのマスク信号出力手段と、前記マスクの製造のためのCADデータに基づき前記マスク信号の出力に同期して所要のマスク形状を示すCAD信号を出力するためのCAD信号出力手段と、前記マスク信号と前記CAD信号とを比較する比較手段とを備え、該比較手段からの出力に基づいて前記マスクの欠陥を検査するようにしたことを特徴とする電子ビーム露光用マスク欠陥検査装置。

IPC (6件)：

G01B 15/00 , G01B 15/04 , G01N 23/04 , G03F 1/08 , G03F 7/20 504 , H01L 21/027

FI (6件)：

G01B 15/00 B , G01B 15/04 , G01N 23/04 , G03F 1/08 S , G03F 7/20 504 , H01L 21/30 541 S

Fターム (33件)：

2F067AA54 , 2F067BB01 , 2F067BB04 , 2F067CC16 , 2F067EE10 , 2F067FF17 , 2F067GG08 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK06 , 2F067NN05 , 2F067RR04 , 2F067RR24 , 2F067RR29 , 2G001AA03 , 2G001BA11 , 2G001CA03 , 2G001FA01 , 2G001FA03 , 2G001FA06 , 2G001FA30 , 2G001GA04 , 2G001GA06 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2H095BA08 , 2H095BD03 , 2H095BD14 , 2H095BD28 , 2H097CA16 , 5F056AA06 , 5F056AA22 , 5F056FA10

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭62-260335
特開昭61-259448
繰返しパターンの欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-231022 出願人：株式会社日立製作所

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