特許
J-GLOBAL ID:200903038081579701

薄膜堆積用分子線セル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北條 和由
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-192261
公開番号(公開出願番号):特開2003-002778
出願日: 2001年06月26日
公開日(公表日): 2003年01月08日
要約:
【要約】【課題】 熱伝導率の低い蒸発材料5でも、坩堝1の中で効率良く伝熱できるようにし、これにより坩堝1の中での温度勾配を小さくし、蒸発材料5を効率よく蒸発して蒸発分子を発生する。【解決手段】 分子線源セルは、蒸発材料5を加熱することにより、その蒸発材料5を溶融、蒸発して、固体表面に薄膜を成長させるための蒸発分子を発生するものである。この分子線源セルは、蒸発材料5を収納する坩堝1と、この坩堝1に収納された前記蒸発材料5を加熱する加熱手段とを有し、前記坩堝1に前記蒸発材料5と共に、熱的、化学的に安定しており、且つ前記蒸発材料5より熱伝導率の高いパイロリティック・ボロン・ナイトライド(PBN)からなる伝熱媒体4を収納したものである。
請求項(抜粋):
蒸発材料(5)を加熱することにより、その蒸発材料(5)を溶融、蒸発して、固体表面に薄膜を成長させるための蒸発分子を発生する真空蒸着用分子線源セルにおいて、蒸発材料(5)を収納する坩堝(1)と、この坩堝(1)に収納された前記蒸発材料(5)を加熱する加熱手段とを有し、前記坩堝(1)に前記蒸発材料(5)と共に、熱的、化学的に安定しており、且つ前記蒸発材料(5)より熱伝導率の高い伝熱媒体(4)を収納したことを特徴とする薄膜堆積用分子線源セル。
IPC (2件):
C30B 23/08 ,  H01L 21/203
FI (2件):
C30B 23/08 M ,  H01L 21/203 M
Fターム (11件):
4G077AA03 ,  4G077BF00 ,  4G077DA07 ,  4G077EG01 ,  4G077HA20 ,  4G077SC12 ,  5F103AA04 ,  5F103BB04 ,  5F103DD25 ,  5F103LL01 ,  5F103RR01
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開平1-225769
  • 特開昭63-235466
  • 特開平1-225769
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