特許

J-GLOBAL ID：200903038114306056

パターン測定方法、及びパターン測定装置

発明者： 宮野 ゆみこ
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-097117
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296761
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】複数の直線領域を具備するパターンの測定を行うこと。【解決手段】試料に形成された微細パターンの画像を取得する画像取得部21と、この画像取得部で取得された画像より、微細パターンのエッジ点を複数抽出するエッジ点抽出部22と、抽出された複数のエッジ点を、分割点を境に複数のグループに分割するエッジ点分割部23と、このエッジ点分割部で分割された各グループ内に含まれるエッジ点を用いてパターンの形状を測定する形状測定部24とを具備してなる。

請求項（抜粋）：

試料に形成され、エッジが直線状の直線領域を複数具備する微細パターンの画像を取得する工程と、取得された画像より微細パターンのエッジ点を複数抽出し、抽出された各エッジ点の位置座標を求める工程と、抽出されたエッジ点を、抽出されたエッジ点から1以上選ばれた分割点を境に、複数のグループに分割する工程と、分割された各グループ内のエッジ点を用いて、前記微細パターンの形状を測定する工程とを含み、前記分割点は、前記各直線領域から抽出されたエッジ点がそれぞれ異なるグループに含まれるように設定されることを特徴とするパターン測定方法。

IPC (9件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/02 ,  G01B 11/28 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 7/60 150 ,  G06T 7/60 180 ,  H01L 21/027 ,  G01B 15/00

FI (9件)：

G03F 1/08 S ,  G01B 11/00 H ,  G01B 11/02 H ,  G01B 11/28 Z ,  G06T 1/00 305 B ,  G06T 7/60 150 S ,  G06T 7/60 180 B ,  G01B 15/00 B ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (63件)：

2F065AA06 ,  2F065AA12 ,  2F065AA17 ,  2F065AA22 ,  2F065AA23 ,  2F065AA25 ,  2F065AA58 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065EE00 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ42 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2F067AA16 ,  2F067AA21 ,  2F067AA26 ,  2F067AA57 ,  2F067BB01 ,  2F067BB04 ,  2F067CC16 ,  2F067FF01 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067RR12 ,  2F067RR24 ,  2F067RR27 ,  2F067RR28 ,  2F067RR29 ,  2F067RR31 ,  2F067RR33 ,  2F067RR41 ,  2F067SS02 ,  2F067SS13 ,  2H095BD03 ,  5B057AA03 ,  5B057BA01 ,  5B057DA07 ,  5B057DA08 ,  5B057DB02 ,  5B057DC02 ,  5B057DC04 ,  5B057DC09 ,  5B057DC16 ,  5L096BA03 ,  5L096FA06 ,  5L096FA19 ,  5L096FA32 ,  5L096FA33 ,  5L096FA59 ,  5L096FA69 ,  5L096FA73

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 多角形パターン複写修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-007856   出願人：セイコー電子工業株式会社
• 微細パターン測定方法、微細パターン測定装置、及び微細パターン測定プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-202038   出願人：株式会社東芝