特許
J-GLOBAL ID：200903038224227020

露光装置

発明者：
福田 剛志

福田 剛志 について

, 
福井 隆史

福井 隆史 について

, 
岡崎 洋二

岡崎 洋二 について


出願人/特許権者：
富士フイルムホールディングス株式会社

富士フイルムホールディングス株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-175391
公開番号（公開出願番号）：特開2006-349945
出願日： 2005年06月15日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】 複数の画素を選択的に変調する手段側から出射された各ビームによって露光して描画するときの描画画素位置を補正して高精度で描画可能とした、構成が簡素で廉価な露光装置を提供する。【解決手段】 制御ユニットのメモリに記憶した、少なくとも補正に必要となる所定描画画素の走査位置に応じた描画画素位置の軌跡に関係する補正用のデータに基づいて、各描画画素に割り与える画像を調整し、露光ヘッドに設置された複数の描画画素を、調整された画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ14に載置された被露光部材11上に照射する状態で、ステージ14と露光ヘッドとを相対的に移動して所定のパターンで走査露光をすることで、所定の描画形状を得るようにする。【選択図】 図15
請求項（抜粋）：
露光ヘッドに設置された複数の描画画素を画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ上に載置された被露光部材上に照射する状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて所定のパターンで露光を行う露光装置において、 少なくとも補正に必要となる所定描画画素の走査位置に応じた描画画素位置の軌跡に関係する補正用のデータをメモリに記憶した制御ユニットと、 前記制御ユニットに記憶された前記補正用のデータに基づいて、前記各描画画素に割り与える画像を調整することで、所定の描画形状を得るようにする描画位置補正手段と、 を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 529
Fターム (8件)：
2H097AA03 ,  2H097CA03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CB18
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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