露光装置及び露光方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：福田充広 , 藤本芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-114415
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319899
出願日： 2003年04月18日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】走査型の露光装置においても、転写パターンの精度を維持すること。【解決手段】プレートPTを走査しつつ、これに同期して各可変パターン生成部41a〜41に形成したパターンをスクロールすることによって、プレートPTの所望領域に所望のパターンが徐々に露光される。この際、主制御装置8は、ステージ装置7のステージ移動誤差、投影光学系6の投影収差、プレートPTに後発的に形成されたプレート変位等を、各可変パターン生成部41a〜41eに表示させる画像の修正によって補正し、或いは各可変パターン生成部41a〜41eの姿勢や配置の修正によって補正し、或いは、フォーカス補正光学系94、像シフターとしての平行平面板95,96、倍率補正光学系97、直角プリズム91等の調節によって補正する。これにより、プレートPT全体に亘って高精度の露光が可能になり、回路等の集積度を高めることができ、回路等の製造の歩留りを高めることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の素子を備え、該複数の素子のスイッチング動作によって所望の露光パターンを形成するパターン形成部と、感光性基板を移動可能に保持する保持手段と、前記パターン形成部によって形成された前記露光パターンを前記保持手段に保持された前記感光性基板上に投影像として投影する投影手段と、前記投影手段と前記保持手段との相対移動により生じる前記保持手段の移動状態を計測する計測手段と、前記パターン形成部における前記複数の素子のスイッチング動作を制御するとともに、前記計測手段による計測結果に基づいて、前記パターン形成部によって形成される前記露光パターンを補正する制御手段と、を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/68

FI (5件)：

H01L21/30 516B , G03F7/20 521 , G03F9/00 H , H01L21/68 F , H01L21/30 518

Fターム (19件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA53 , 5F031JA04 , 5F031JA06 , 5F031JA17 , 5F031JA28 , 5F031JA32 , 5F031JA38 , 5F031JA50 , 5F031KA06 , 5F031KA07 , 5F031KA08 , 5F031MA27 , 5F046BA05 , 5F046CB18 , 5F046CC13 , 5F046CC15 , 5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (6件)

走査露光方法および走査型露光装置並びにマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-113132 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-346753 出願人：オリンパス光学工業株式会社
リソグラフィ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-314739 出願人：株式会社日立製作所

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